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重大突破!第一台28nm国产光刻机即将面世!

* 来源: * 作者: admin * 发表时间: 2020-06-18 17:25:33 * 浏览: 0

光刻机作为制造芯片的核心设备,在半导体行业的地位十分重要。近日,上海微电子装备(集团)股份有限公司宣布,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机,这台光刻机设备也将会成为我国最先进的光刻机设备。

 

虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距,但经过此次重大的突破,差距已经大大缩小,这标志着国产光刻机的飞跃式进步。与此同时,上海微电子凭借此项制程工艺成为继荷兰ASML后,全球第二先进的光刻机厂商巨头。