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中科院入场光刻机,突破5nm技术!

* 来源: * 作者: admin * 发表时间: 2020-11-04 15:49:19 * 浏览: 5

前不久,中国科学院宣布入场光刻机!光刻机从表面上看是个巨大的难题,但最近,传来一个好消息,中国科学院已经研发出5nm激光光刻加工方法,这项新技术的出现或将一举打破荷兰ASML的垄断局面。接下来,中国还将培养更多优秀的专业人才,落实芯片产业,实现在芯片领域上的重大突破,实现芯片爆发式增长,掌握芯片的核心技术。