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国产光刻胶迎来重大新突破

* 来源: * 作者: admin * 发表时间: 2021-05-27 16:44:38 * 浏览: 1

近日,我国在高端光刻胶领域迎来了重大突破可用于7nm芯片。伴随着我国高端光刻胶的突破,对日本、美国企业在光刻胶市场的垄断地位,也会造成一定程度的冲击。